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『簡體書』基于脉冲激光沉积富硼B-C薄膜的关键技术研究

書城自編碼： 3110428
分類：簡體書→大陸圖書→工業技術→矿业工程
作者： 章嵩
國際書號(ISBN)： 9787030553331
出版社： 科学出版社
出版日期： 2017-11-01
版次： 1
頁數/字數： 100/
書度/開本： 16开 釘裝： 平装

售價：HK$ 55.1

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編輯推薦：
薄膜材料研究专业科技人员，高等院校材料类及相关专业的本科生、研究生
內容簡介：
惯性约束聚变技术是当前研究热点，其基本原理为利用高功率激光照射装有氘氚燃料的靶丸从而引发热核爆炸。为进一步提高核聚变反应效率，必须寻求新的高增益靶丸。镀有富硼B-C薄膜靶丸即能吸收中子有效控制核聚变又能*程度保证氘氚燃料的安全，从而成为代表性的新型高增益靶丸。
目錄：
目录
《博士后文库》序言
前言
第1章 导论 1
1.1 激光惯性约束核聚变 2
1.1.1 激光惯性约束核聚变技术 2
1.1.2 激光惯性约束核聚变靶丸材料 4
1.2 B-C系列材料 5
1.2.1 B-C系列材料的晶体结构 5
1.2.2 B-C系列材料的研究现状 8
1.2.3 B-C系列薄膜的研究现状 10
第2章 富珊B-C陶瓷的制备、结构分析与成分控制 13
2.1 引言 13
2.2 实验与测试 14
2.2.1 实验原料 14
2.2.2 实验设计与工艺过程 14
2.2.3 测试方法 15
2.3 B-C系列陶瓷靶材的烧结致密化 16
2.3.1 B-C陶瓷烧结体的致密度分析 16
2.3.2 B-C陶瓷的物相分析 17
2.3.3 B-C陶瓷的显微结构分析 23
2.4 不同配比B-C陶瓷靶材的制备与成分控制 27
2.4.1 不同配比B-C陶瓷的物相结构分析 27
2.4.2 不同原子比B-C陶瓷的显微结构分析 28
2.4.3 B-C陶踵的化学组成分析与成分控制 30
2.4.4 硼、碳原子的化学结构分析 31
第3章 采用B-C陶瓷靶的富硼B-C薄膜脉冲激光沉积 35
3.1 引言 35
3.2 实验与测试 36
3.2.1 实验原料 36
3.2.2 实验设计与工艺过程 36
3.2.3 测试方法 39
3.3 富硼B-C薄膜的脉冲激光沉积工艺研究 41
3.3.1 脉冲激光能量对薄膜沉积质量的影响 4
3.3.2 靶-基距对薄膜沉积质量的影响 46
3.4 B-C薄膜的成分研究 49
3.4.1 B-C薄膜的化学组成分析与成分控制 49
3.4.2 硼、碳原子的化学结构研究 50
第4章 采用B-C拼合靶的富硼B-C薄膜脉冲激光沉积 53
4.1 引言 53
4.2 实验与测试 54
4.2.1 实验原料 54
4.2.2 实验设计与工艺过程 55
4.2.3 测试方法 57
4.3 B-C拼合靶的脉冲激光沉积工艺研究 58
4.3.1 基板温度对薄膜沉积质量的影响 58
4.3.2 靶材自转速度对薄膜沉积质量的影响 64
4.4 B-C薄膜的成分分析与控制 65
4.4.1 B-C薄膜的化学组成分析与成分控制 65
4.4.2 硼、碳原子的化学结构分析 66
4.5 B-C拼合靶的脉冲激光沉积过程分析 68
4.5.1 脉冲激光沉积技术 68
4.5.2 脉冲激光烧蚀靶材过程分析 69
4.5.3 脉冲激光烧蚀产生等离子体的膨胀行为分析 71
4.5.4 等离子体羽辉边界的求解 75
4.5.5 B-C薄膜中原子比的理论计算 77
本书总结 81
参考文献 83

 

 

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